Rapidus社长小池淳义（左二）陪同荷兰首相斯霍夫（左三）考察该公司新工厂。4月22日上午摄于北海道千岁市。（共同社）
【共同社4月22日电】荷兰首相斯霍夫22日考察位于日本北海道千岁市的Rapidus新工厂，该公司力争实现下一代半导体的国产化并已在本月启动试验生产线。荷兰企业向Rapidus提供生产微小半导体不可或缺的光刻设备，斯霍夫表示期待称“两国合作提升技术对全球有益”。
陪同的Rapidus社长小池淳义表示，“荷兰的设备对Rapidus很重要。”该公司去年12月从荷兰半导体制造设备巨头ASML引入了支持量产的极紫外光（EUV）光刻设备，是日本首例。这是使用特殊紫外光刻出电路的设备，全球仅ASML一家生产。
Rapidus推进研发2纳米（1纳米为10亿分之1米）制程的半导体生产技术，力争2027年开始量产。（完）
