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12月5日，日本经济产业相西村康稔（右一）与美国半导体巨头英伟达公司CEO黄仁勋（左一）等人会面。摄于东京都千代田区。（共同社）
【共同社12月5日电】到访日本的美国半导体巨头英伟达公司首席执行官（CEO）黄仁勋5日在经济产业省与经产相西村康稔会面，表示将在日本国内设置研究开发据点，与大学和经产省等开展合作。他未透露具体地点和时间等信息。
英伟达的优势领域是能高效处理大量数据的图形处理器（GPU），被用于开发生成式人工智能（AI）。西村表示，开发日本国产的生成式AI“不能缺少英伟达的协助”，提出希望该公司向日本稳定供应GPU。
据经产省消息，西村和黄仁勋还讨论了强化英伟达与日本国立研究开发法人“产业技术综合研究所”的合作。今后将汇总具体举措。
会面时，黄仁勋就AI表示，在教育、促进研发和培育初创企业这三方面“希望在日本投资”。他示意将与日本企业加强面向开发国产生成式AI的合作并加速研发。
黄仁勋透露，日本首相岸田文雄也在4日的会面中提出希望英伟达向日本稳定供应GPU。（完）
