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IGZO专利诉讼尘埃落定,细野秀雄教授的发明得到保障

2019年06月20日 产业动态
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日本企业对东京工业大学荣誉教授细野秀雄等人发明的薄膜晶体管专利提出无效请求的诉讼终于结案。专利权人日本国立研究开发法人科学技术振兴机构(JST)的理事长濱口道成6月11日召开记者发布会宣布了此事。濱口理事长对签署授权协议的企业表示:“希望能像以前一样,继续放心地使用与IGZO专利群有关的发明”。

IGZO专利诉讼尘埃落定,细野秀雄教授的发明得到保障

科学技术振兴机构理事长濱口道成

专利名为“IGZO基氧化物半导体薄膜晶体管”,是根据凭借新颖的创意接连发明了新材料的细野秀雄教授最有名的研究成果之一开发出来的。IGZO这个名称源自构成薄膜晶体管的铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)、氧(O)四种元素的首字母。“IGZO基氧化物半导体薄膜晶体管”作为高度节能的液晶显示屏,被广泛应用于个人电脑、平板电脑以及大型有机EL电视等领域。该技术主要是在JST创造科学技术推进事业的支援下取得的研究成果,因此JST作为专利权人,从2011年开始与日本国内外的企业之间推进签订授权(使用许可)协议的交涉等。

然而,位于日本神奈川县厚木市的半导体能源研究所于2014年开始以JST等为对象,在日本、韩国、台湾及欧洲针对该专利提出无效请求并申请复议等,这场围绕专利有效性的纠纷一直持续到今年。目前,所有国家和地区均做出了承认专利有效性的裁定。针对半导体能源研究所在日本和韩国提起的要求撤销裁定的反讼,法院也做出了承认专利有效性的判决,这起持续多年的专利纠纷于4月13日画上了句号。

第一家授权企业为三星电子

最先关注“IGZO基氧化物半导体薄膜晶体管”的是韩国三星电子。2011年7月,JST宣布与三星电子签署专利授权协议时遭到了“为何要让外国企业率先使用”的质疑之声。当天出席记者发布会的细野解释说,三星电子在将他的研究成果发展为新一代大型显示器最有可能使用的薄膜晶体管方面发挥了决定性的作用,同时就日本企业无法做到这一点的原因明确表示:“因为不具备三星电子那样的投资能力”。三星电子当时已经是在《财富》杂志2011年发布的销售额排行榜中排名世界第22位(约1,340亿美元)的大企业,日本的机电企业无一能及。

JST理事长濱口介绍说,除三星电子以外,其他外国企业快速追踪日本大学教授的研究成果,率先签订授权协议并成功商品化的具体案例也非常多。他介绍了七个日本企业丝毫没有表现出兴趣,外国企业率先接受技术授权并成功实现实用化的案例,比如将日本自治医科大学教授间野博行(现为国立癌症研究中心研究所长)的发明作为肺癌治疗药物实现实用化的是总部位于美国的制药公司“辉瑞”,另外,将东京工业大学教授伊贺健一(后来升任校长,现为名誉教授)发明的面发光激光器作为激光光源实现实用化的也是美国和德国的企业。

日本的创业活动指数只有中国的一半

濱口理事长强调说,JST将进一步致力于把持有的专利等知识产权授权给企业使用的活动,同时也会努力保护知识产权,以便让签订授权协议的企业放心使用。另外他还提醒到,日本大学创办的初创企业数量与雷曼危机以前相比一直在减少,为了让日本企业对日本大学的研究成果更感兴趣,并激发大学的创业意愿,JST将继续积极推进相关工作。濱口理事长列举了综合创业活动指数——正在为启动新业务做准备的人、或者已经拥有公司但盈利时间还不到3年半的人的占比。目标是“至少将目前只有5.3%的数值提高到与10.3%的中国相当的程度”。

除IGZO基氧化物半导体薄膜晶体管外,细野荣誉教授的著名成果还包括发明了铁基超导材料和C12A7电极等全新的材料,并于2016年获得了日本国际奖。这些材料的主要特点是均由常见成分构成,细野2013年还登上了国际信息服务企业“汤森路透”(现为科睿唯安)每年根据论文被引用次数等公布的诺贝尔奖热门候选人预测名单。

IGZO专利诉讼尘埃落定,细野秀雄教授的发明得到保障

出席新成立的制氨公司 “Tsubame BHB”记者发布会的人员(右起依次为东京工业大学校长三岛良直教授、味之素社长西井孝明、东京工业大学教授细野秀雄、UMI代表董事月丘诚一、Tsubame BHB社长中谷秀雄、JST理事后藤吉正)

通过采用C12A7电极作为催化剂,以前必须在高温高压条件下利用大规模设施才能生产的氨,现在可以在小型工厂里利用低温低压生产。2017年4月,味之素公司、Universal Materials Incubator(UMI)公司、东京工业大学以及JST共同成立了计划利用这种方法制造氨的新公司“Tsubame BHB”。

文:小岩井忠道 JST客观日本编辑部

【相关链接】
2017年4月27日味之素、Universal Materials Incubator、东京工业大学、科学技术振兴机构新闻发布资料“味之素㈱、UMI、东工大教授等成立新公司,计划全球首次实现氨的现场生产”
2011年7月20日科学技术振兴机构、东京工业大学新闻发布资料“与三星电子签订高性能薄膜晶体管相关的专利授权协议”

【相关报道】
2017年05月11日“成立新公司推广全新的氨生产方法”
2016年1月26日Science portal“细野秀雄等人获得日本国际奖”
2013年9月27日Science portal“大隅、水岛、细野三人入围诺贝尔奖热门候选
2011年7月21日Science portal“三星与日本企业有
2011年7月20日Science portal“与三星签订薄膜晶体管专利授

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